イベントのご案内
(社)日本金属学会 ナノプレーティング研究会
第11回（通算75回）例会 特集:めっき膜中の水素の挙動
| 日 時 | 2004年10月14日（木）13:00～17:00 |
| 場 所 | 工学院大学 11階 第5会議室（東京都新宿区西新宿1-24-2） |
| 講 演 | 13:00～17:00 |
| 1． | 13:00～13:50 (50分) |
| 表面処理に起因する水素脆性 | |
| (有)高田研究所 高田幸路 | |
| ２． | 13:50～14:40（50分） |
| 無電解銅めっき膜中への分子状水素の混入と、その物性に対する影響 | |
| 早稲田大学 理工学部 沖中 裕 | |
| 休憩14:40～14:50 (10分) | |
| ３． | 14:50～15:40（50分） |
| 電析・触媒反応における金属－水素－ハロゲンの挙動から | |
| 旭硝子株式会社 中央研究所 吉武 優 | |
| ４． | 15:40～16:30 (50分) |
| 金属の化学的表面状態と水素の溶解・透過 －分子状水素と原子状水素の違いを中心に－ | |
| 富山大学 水素同位体科学研究センター 波多野雄治 | |
| ５． | 16:30～17:00（30分） |
| フリーディスカッション | |
| 参加費 | 当研究会会員無料 非会員10,000円 |
| 参加申込 | FAXまたはE-mailで10月12日まで |
| 問合先 | 〒192-0397八王子市南大沢 1-1 東京都立大学大学院 工学研究科 応用化学専攻 渡 辺 徹 TEL＆FAX 0426-77-2851 E-mail：watanabe-tohru@c.metro-u.ac.jp |